MC1000離子濺射儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

更新時(shí)間：2019-03-11
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顯微檢測(cè)設(shè)備

奧林巴斯工業(yè)顯微鏡
激光共聚焦顯微鏡光學(xué)數(shù)碼顯微鏡正/倒置金相顯微鏡原子力顯微鏡顯微分光測(cè)定儀體視顯微鏡半導(dǎo)體/FPD檢查顯微鏡測(cè)量顯微鏡圖像分析軟件偏光顯微鏡
奧林巴斯生物顯微鏡

DeltaPix 數(shù)碼顯微鏡
DPX M12000 數(shù)碼顯微鏡
顯微光電流測(cè)試系統(tǒng)

測(cè)量顯微鏡

紅外測(cè)量顯微鏡

日立掃描電鏡
日立電鏡制樣設(shè)備場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鎢燈絲掃描電鏡臺(tái)式掃描電鏡
激光加工設(shè)備

Deltapix相機(jī)
SWIR1.3DPX SWIR – Short-wave infrared cameras with InGaAs sensor technology COOL09DPX Cooled Microscope Camera with 9 Megapixel COOL07DPX Cooled Microscope Camera with 7 Megapixel Invenio 6EIII 6.3 Megapixel Microscope Camera Invenio 10EIII 10 Megapixel Microscope Camera Invenio 20EIII 20 Megapixel Microscope Camera Invenio 12EIII 12 Megapixel Microscope Camera
激光修補(bǔ)機(jī)/激光打標(biāo)機(jī)

飛秒激光直寫設(shè)備

高速相機(jī)
高速軟件 i-SPEED7 i-SPEED5 i-SPPED2
無掩膜光刻機(jī)
定制化系統(tǒng)

冷熱臺(tái)

顯微變倍檢測(cè)

顯微探針臺(tái)

低溫凍融顯微系統(tǒng)

顯微拉曼光譜測(cè)試系統(tǒng)

顯微光電流測(cè)試系統(tǒng)

光纖波導(dǎo)耦合系統(tǒng)

手動(dòng)探針臺(tái)

激光修補(bǔ)機(jī)

大尺寸顯微鏡
光學(xué)設(shè)備組件

Prior電動(dòng)載物臺(tái)

WDI自動(dòng)聚焦系統(tǒng)
WDI IRLC近紅外激光掃描顯微鏡 WDI MMS模塊化自動(dòng)聚焦顯微鏡 WDI ATF自動(dòng)聚焦模塊
Navitar鏡頭

奧林巴斯物鏡

INSTEC冷熱臺(tái)

三豐物鏡

相機(jī)
紅外相機(jī) 可見光相機(jī)
變倍鏡頭

電動(dòng)物鏡切換器

電動(dòng)載物臺(tái)

其他附件
Acktar鍍黑鋁箔探測(cè)器
軟件

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詳細(xì)介紹

日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

主要特點(diǎn)：
1. 操作方便且有記憶功能，LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案；
2. 通過磁場(chǎng)控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過選配測(cè)量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。

應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

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