MC1000離子濺射儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

更新時(shí)間：2019-03-11
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PRODUCT CATEGORY

表面表征

奧林巴斯工業(yè)顯微鏡
激光共聚焦顯微鏡光學(xué)數(shù)碼顯微鏡正/倒置金相顯微鏡原子力顯微鏡顯微分光測(cè)定儀體視顯微鏡半導(dǎo)體/FPD檢查顯微鏡測(cè)量顯微鏡圖像分析軟件偏光顯微鏡
奧林巴斯生物顯微鏡

DeltaPix 數(shù)碼顯微鏡
DPX M12000 數(shù)碼顯微鏡
奧林巴斯工業(yè)內(nèi)窺鏡
工業(yè)視頻內(nèi)窺鏡標(biāo)準(zhǔn)硬性管道鏡
日立掃描電鏡
日立電鏡制樣設(shè)備場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鎢燈絲掃描電鏡臺(tái)式掃描電鏡
光學(xué)測(cè)量

Ophir激光功率能量計(jì)

Optris紅外熱像儀

admesy光譜儀

admesy色度計(jì)
圖像采集

Deltapix相機(jī)
SWIR1.3DPX SWIR – Short-wave infrared cameras with InGaAs sensor technology COOL09DPX Cooled Microscope Camera with 9 Megapixel COOL07DPX Cooled Microscope Camera with 7 Megapixel Invenio 6EIII 6.3 Megapixel Microscope Camera Invenio 10EIII 10 Megapixel Microscope Camera Invenio 20EIII 20 Megapixel Microscope Camera Invenio 12EIII 12 Megapixel Microscope Camera
Lumenera&INFINITY工業(yè)和科研相機(jī)

Vieworks 工業(yè)相機(jī)

Qimaging 相機(jī)

圖像分析軟件

高速相機(jī)
高速軟件 i-SPEED7 i-SPEED5 i-SPPED2
光學(xué)鏡頭及其他附件

Prior電動(dòng)載物臺(tái)

WDI自動(dòng)聚焦系統(tǒng)
WDI IRLC近紅外激光掃描顯微鏡 WDI MMS模塊化自動(dòng)聚焦顯微鏡 WDI ATF自動(dòng)聚焦模塊
Navitar鏡頭

奧林巴斯物鏡

INSTEC冷熱臺(tái)

三豐物鏡

其他附件
Acktar鍍黑鋁箔探測(cè)器
OEM產(chǎn)品

冷熱臺(tái)

顯微變倍檢測(cè)

顯微探針臺(tái)

低溫凍融顯微系統(tǒng)

顯微拉曼光譜測(cè)試系統(tǒng)

顯微光電流測(cè)試系統(tǒng)

光纖波導(dǎo)耦合系統(tǒng)

手動(dòng)探針臺(tái)

激光修補(bǔ)機(jī)

大尺寸顯微鏡

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詳細(xì)介紹

日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

主要特點(diǎn)：
1. 操作方便且有記憶功能，LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案；
2. 通過(guò)磁場(chǎng)控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過(guò)選配測(cè)量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。

應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

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